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工業(yè)真空等離子處理機系列
真空等離子處理機是一個具有多用途的機械系統(tǒng)，廣泛應用于活化，退鍍，改性，蝕刻，提升附著力和清洗等等功能。腔體大小從20升~1000升以上，電源、真空泵、反應氣體等根據(jù)需求靈活定制，清洗工藝靈活可控制，具有清洗溫度低，效果好，全方位清洗無死角，產(chǎn)能高等特點，是東信等離子事業(yè)部門主推產(chǎn)品之一
全國服務熱線： 137-2884-2905
真空等離子處理機產(chǎn)品參數(shù)：
| 電源頻率 | 40KHz/13.56MHz可選 |
| 容量 | 20L~1000L |
| 功率 | 0-1000W(可調(diào)) |
| 腔體尺寸 | 定制 |
| 處理層數(shù) | 定制 |
| 外形尺寸 | 定制 |
| 真空泵 | 油泵/干泵+羅茨組合 |
| 真空度 | 5-100pa(可調(diào)) |
| 腔體材質(zhì) | 316不銹鋼/進口鋁合金(選配) |
| 氣體流量控制 | 0-500SCCM(MFC±2%) |
| 氣體通道 | 兩路(可增加):Ar/N2/H2/CF4/02 |
| 等離子體發(fā)生器 | 40KHz/13.56MHz |
| 腔體溫度 | ＜30℃ |
| 控制方式 | PLC+觸摸屏 |
| 系統(tǒng)控制軟件 | 自主研發(fā)V2.0 |
| 電極陶瓷 | 進口高頻陶瓷 |
產(chǎn)品功能：
蝕刻：對于光致抗蝕劑聚酰亞胺的殘留和以硅化物為基本成分的涂層等材料的清除很有用
粘附提升：往基質(zhì)上添加活化能力強的化學基團以提高其粘合劑的黏著度。
清洗：清除材料上的光學物質(zhì)的污染以及清除有機物殘留，氧化和金屬鹽等對材料的污染。
活化：能使處理基材表面生成所需化學極鍵；
退鍍：使被處理基材除去金屬等材料，制作各種產(chǎn)品。
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